CHINESE J CHEM PHYS
| 中国学者近期发表的论文 | |
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| 1. | Ab initio Study on Formation Mechanism of Spiro-Si-Heterocyclic Ring Compound Involving Ge from H2Ge= Si: and Formaldehyde Author: lxh Journal: CHINESE JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS |
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| 分享者 | 分享日期 | 点评内容 |
| 第1楼 作者：在水一方853 | 2013-05-22 12:03:00 | 研究方向：化学科学 物理化学 投稿周期：0.0 个月 录用情况：不详 |